産(chǎn)品熱線丨(shù)氯化(huà)鉀鍍(dù)鋅常見故(gù)障(zhàng)分析（一(yī)）

氯化(huà)鉀鍍鋅是(shì)由最(zuì)早的無(wú)氰氯化(huà)铵鍍液發展而(ér)來的一(yī)種無铵弱(ruò)酸性光亮鍍(dù)鋅工藝。

其(qí)優(yōu)點(diǎn)是：

(1)鍍(dù)液導(dǎo)電性(xìng)好，槽壓低，節省電能;

(2)鍍層結晶細緻、光(guāng)亮(liàng)、平整(zhěng);

(3)電流(liú)效率高(gāo)，沉積速(sù)度快(kuài);

(4)鍍液分散能力好;

(5)适(shì)用于鑄件直接(jiē)電鍍;

(6)廢水處理(lǐ)簡便(biàn)，解決了環(huán)境污(wū)染的(de)問題(tí)。因此，氯化鉀鍍鋅在工業上得(dé)到了(le)廣泛(fàn)應用(yòng)。

   但是(shì)，在(zài)日(rì)常(cháng)生(shēng)産中(zhōng)難免會發(fā)生質量(liàng)故障，主(zhǔ)要原(yuán)因在(zài)于鍍(dù)液維護不力，組(zǔ)分失調或受到(dào)有害雜(zá)質幹擾(rǎo)，以及工件前處理不(bú)良。本篇拟(nǐ)就氯(lǜ)化鉀(jiǎ)鍍鋅(xīn)中常(cháng)見故障的(de)産生原(yuán)因及其(qí)處理方(fāng)法進行彙總和(hé)介紹。

 各(gè)種常(cháng)見故(gù)障的(de)産生原因(yīn)及其處理方(fāng)法(fǎ)

一、鍍(dù)層不(bú)光(guāng)亮 ：

産生(shēng)原因(yīn)：

(1) 鍍(dù)液濃度(dù)過低(即氯(lǜ)化鋅(xīn)、氯化(huà)鉀和硼酸(suān)的含(hán)量(liàng)均低);

(2) 光亮劑(jì)不足(zú);

(3) ph 過高;

(4) 鍍液溫度(dù)過高;

(5) 陰(yīn)極電流密度(dù)小;

(6) 金屬鐵(tiě)雜質(zhì)多;

(7) 有機(jī)雜質多(duō)。

處理方法：

(1) 通過分析(xī)，補加氯化(huà)鋅、氯化鉀(jiǎ)和硼(péng)酸至工藝規範(fàn);

(2) 适當(dāng)添(tiān)加(jiā)光亮(liàng)劑;

(3) 用稀(xī)鹽(yán)酸溶液調(diào)節(jiē)ph 至(zhì)工藝規(guī)範;

(4) 降(jiàng)低(dī)鍍液(yè)溫度至工藝(yì)規(guī)範;

(5) 适(shì)當提高陰(yīn)極電(diàn)流(liú)密(mì)度;

(6) 加入0.5 ~ 2 ml/l 的雙(shuāng)氧水(w = 30%)，充分(fèn)攪拌(bàn)後，用w = 5% 的(de)氫氧(yǎng)化(huà)鈉調節(jiē)ph 至6.2，沉澱、過(guò)濾後(hòu)可除去氫氧化(huà)鐵;

(7) 在鍍(dù)液(yè)溫度(dù)為45 °c 時(shí)加入1 ~ 3 g/l 活性(xìng)炭，攪(jiǎo)拌約30 min 後過(guò)濾;或采用高錳(měng)酸鉀法處(chù)理，即(jí)先用(yòng)稀鹽(yán)酸調(diào)低ph 至3 ~ 4，然後(hòu)在攪(jiǎo)拌的(de)情況下将(jiāng)溶有(yǒu)0.5 ~ 1 g/l 高錳酸鉀(jiǎ)的熱水均勻加入鍍液中(zhōng)，再繼(jì)續攪(jiǎo)拌30 min ，然(rán)後靜(jìng)置過濾，可除去(qù)有機(jī)物。

 二、發霧(wù)、發花：

 産生(shēng)原因(yīn)

(1) 鍍液(yè)溫度過高(gāo);氯化鉀鍍(dù)鋅故(gù)障處理

(2) ph 過高(gāo);

(3) 槽(cáo)鍍工件過多或(huò)陽極面(miàn)積不夠;

(4) 氯化(huà)鋅含(hán)量過(guò)低;

(5) 金屬銅、鉛雜(zá)質多;

(6) 光亮(liàng)劑(jì)不足;

(7) 有機雜(zá)質多(duō);

(8) 工件基體表面的前處(chù)理(lǐ)不良。

 處理方(fāng)法

(1) 調低(dī)鍍液(yè)溫度至(zhì)工(gōng)藝規(guī)範;

(2) 調低ph 至(zhì)工藝(yì)規範;

(3) 适當(dāng)減少(shǎo)工(gōng)件(jiàn)裝載量或(huò)增加陽極(jí)鋅闆面積(jī);

(4) 通過(guò)分析，補(bǔ)加(jiā)氯化(huà)鋅至工藝規範(fàn);

(5) 采用(yòng)置換法(添(tiān)加1 ~ 3 g 純鋅粉)或小(xiǎo)電流(liú)密度電(diàn)解(jiě)除去銅、鉛(qiān)雜質(銅、鉛(qiān)含量過多還會使低電流(liú)密度區鍍層呈(chéng)黑色(sè)霧狀);

(6) 适(shì)當(dāng)添加(jiā)光亮(liàng)劑;

(7)  在(zài)鍍液溫度為45 °c 時加入(rù)1 ~ 3 g/l 活(huó)性炭，攪(jiǎo)拌約30 min 後過濾;或(huò)采用(yòng)高錳酸鉀法處(chù)理(lǐ)，即先用(yòng)稀鹽酸調(diào)低ph 至(zhì)3 ~ 4，然後(hòu)在攪(jiǎo)拌的(de)情(qíng)況下将溶有(yǒu)0.5 ~ 1 g/l 高錳酸鉀的熱(rè)水均(jun1)勻(yún)加入鍍(dù)液中，再(zài)繼續攪拌30 min ，然(rán)後靜(jìng)置過(guò)濾，可除(chú)去有機(jī)物。

三、起泡(pào)，結合(hé)力差

産生(shēng)原因：

(1) 鍍液(yè)中(zhōng)氯(lǜ)化鉀(jiǎ)含量過高;

(2) ph 過低(dī)

(3) 陰(yīn)極電(diàn)流密度(dù)大;

(4) 光亮劑過多(duō);

(5) 金屬(shǔ)鐵雜質多(duō);

(6) 工件基(jī)體含有(yǒu)矽。

處(chù)理方法

(1) 通(tōng)過(guò)分(fèn)析，補(bǔ)加氯(lǜ)化鉀(jiǎ)至(zhì)工藝規(guī)範;

(2) 調高(gāo)ph 至工藝(yì)規範(fàn);

(3) 适(shì)當(dāng)降低(dī)陰極(jí)電流(liú)密度(dù);

(4) 用适(shì)量的活性(xìng)炭吸附(fù)後(hòu)過濾(lǜ);

(5) 加入0.5 ~ 2 ml/l 的雙(shuāng)氧水(shuǐ)(w = 30%)，充分攪(jiǎo)拌後，用(yòng)w = 5% 的氫氧化鈉調(diào)節ph 至6.2，沉澱、過濾(lǜ)後可除去氫氧(yǎng)化鐵;

(6) 通過核實，配制(zhì)含氫氟酸(suān)的混(hùn)合(hé)溶(róng)液進行酸洗。可采用(yòng)300 ml/l 濃鹽(yán)酸 + 20 ml/l 氫氟酸(suān)(whf = 40%)溶液，其中(zhōng)的氫(qīng)氟酸能溶解并(bìng)去除含矽(xī)化合(hé)物(wù)，使工(gōng)件基體表面(miàn)完全(quán)活化(huà)。

四、粗(cū)糙，燒(shāo)焦：

産生原因(yīn)：

(1) 鍍(dù)液中(zhōng)氯化(huà)鋅含量過高(使鍍層粗糙(cāo))或過低(易燒(shāo)焦);

(2) 氯化鉀和硼酸(suān)含量(liàng)過低(dī);

(3)ph 過高(gāo)(使鍍層粗(cū)糙)或過低(導緻燒焦(jiāo));

(4) 光亮劑不(bú)足;

(5) 金(jīn)屬鐵、銅雜質多(duō)。

 處理(lǐ)方(fāng)法：

(1) 通過(guò)分析，調(diào)整(zhěng)氯化(huà)鋅(xīn)含量至工藝(yì)規範(fàn);

(2) 補加氯化鉀和硼酸至工(gōng)藝規範;

(3) 調節ph 至(zhì)工藝(yì)規範;

(4) 适當添加光亮劑;

(5) 加(jiā)入0.5 ~ 2 ml/l 的雙氧(yǎng)水(w = 30%)，充(chōng)分攪(jiǎo)拌後(hòu)，用w = 5% 的氫氧化(huà)鈉(nà)調節ph 至6.2，沉澱、過濾後可除(chú)去氫氧化(huà)鐵;

（6）采用置(zhì)換法(添加(jiā)1 ~ 3 g 純鋅(xīn)粉)或(huò)小電流密(mì)度電解除去銅、鉛雜質(銅、鉛含量過(guò)多還(hái)會(huì)使低電流密度區(qū)鍍層(céng)呈黑色霧狀);

(1) 通(tōng)過分(fèn)析，補加氯(lǜ)化鋅(xīn)至工藝規(guī)範;

(2) 将(jiāng)鍍(dù)液ph 調低(dī)至工(gōng)藝規範;

(3) 适(shì)當添(tiān)加光亮劑(jì);

(4) 降低鍍液溫度至(zhì)工藝規範。